Patentmuster stricken – die Grundlagen - Pascuali

Patentmuster stricken – die Grundlagen

Beim Patentmuster scheiden sich die Geister: Immer wieder ist zu hören, Patentmuster sei schwierig. Verschiedene Muster? Grundsätzlich gibt es drei verschiedene Formen von Patentmaschen: Das Vollpatent, Halbpatent und falsches Patent.

Von Claudia Ostrop

Beim Patentmuster scheiden sich die Geister: Immer wieder ist zu hören, Patentmuster sei schwierig. Die dicken Rippen haben ihren Ruf, kompliziert zu sein, völlig zu Unrecht, finden wir – denn eigentlich stricken sich die verschiedenen Patentmuster leicht von der Hand.
Verschiedene Muster? Grundsätzlich gibt es drei verschiedene Formen von Patentmaschen:

Das Vollpatent, Halbpatent und falsches Patent. Und alle drei sind sie kein Hexenwerk, sondern letztlich nur pummelige 1x1-Rippen. Schön dick, elastisch und von beiden Seiten gleichermaßen hübsch anzuschauen. Wie sie gestrickt werden ist unser heutiges Thema für euch. Wir stellen euch die drei Grundformen vor, jeweils für das Stricken in Reihen und in Runden. Für Schals schon mal ein ordentliches Rüstzeug! Und wer dann auf den Geschmack gekommen ist, kann sich freuen: Demnächst werden wir uns mit zweifarbigem Patent befassen und mit Zu- und Abnahmen beim Patentstricken.

Patentmuster – welche Varianten gibt es?

Patentmaschen erzeugen immer ein besonders voluminöses Maschenbild. Bei den echten Patentmustern (im Gegensatz zum so genannten „falschen“ Patent) wird eine Masche nur in jeder zweiten Reihe oder Runde gestrickt. Durch Umschläge und Abheben sowie tiefergestochene Maschen ergibt sich die üppige, dreidimensionale Struktur des Gestricks. Patentmaschen sind „Garnfresser“ – beim Vollpatent kann man etwa die Hälfte mehr an Garn als für glatt rechts Gestricktes einplanen. Das macht ein Strickstück entsprechend schwer, und so sollte man gut überlegen, welches Garn man für ein Projekt wählt. Normale Baumwolle ist ziemlich ungeeignet: Zum einen, weil das Gesamtgewicht sehr hoch wäre und zum anderen, weil genau dieses Eigengewicht das Muster ordentlich in die Länge ziehen und ausleiern würde. Auch Superwash-Garne sind für Patentmuster nicht ideal, denn sie haben die Tendenz zum „Wachsen“, und dadurch würde auch die dicken Rippen des Patents schnell außer Form geraten. Ideal für Patentmuster sind dicke, fluffige Garne. Tibetan z. B. ist wunderbar geeignet, oder wie wäre es mit Merino Baby oder Balayage und Manada zusammen verstrickt? 

Aber nun zu den einzelnen Varianten der patenten Maschen:

Vollpatent

Als Vollpatent bezeichnet man das Muster, bei dem in jeder Reihe oder Runde mit Umschlägen oder tiefergestochenen Maschen gearbeitet wird. Richtig abgestrickt wird eine Masche damit nur in jeder zweiten Reihe oder Runde. Dadurch ergibt sich das üppige Volumen. Von der Optik her unterscheiden sich die beiden Varianten nicht ¬ – das Ergebnis ist das gleiche, nur der Weg dorthin ist unterschiedlich. Ob man lieber mit Umschlägen oder mit tiefergestochenen Maschen arbeitet, ist einzig und allein Geschmackssache.

Vollpatent mit Umschlägen

Hierbei wechseln sich eine gestrickte Masche und eine abgehobenen Masche mit Umschlag ab – in der nächsten Reihe oder Runde wird dann die Masche mit ihrem Umschlag zusammen abgestrickt und die zuvor „normal“ gestrickte Masche mit einem Umschlag abgehoben.

Vollpatent mit Umschlägen in Reihen

Die Ausgangsreihe besteht aus einem Wechsel von je einer linken und einer rechten Masche (1li, 1re), eingerahmt von Randmaschen. In der ersten Patentreihe hebt man die linken Maschen mit einem Umschlag ab (1abh U) und strickt die rechten Maschen rechts ab. Das Abheben funktioniert ganz einfach: Den Faden vor die Arbeit holen, die Masche wie zum Linksstricken abheben und den Faden wieder nach hinten führen.
In der nächsten und allen folgenden Reihen werden die jetzt links erscheinenden Maschen mit einem Umschlag abgehoben und die Maschen mit Umschlag aus der Vorrunde rechts zusammengestrickt. Das ergibt die Patentmaschen (1PM re).

Basis-Reihe: Randmasche, (1li, 1re), Randmasche
Reihe 1: Randmasche, (1abh U, 1re), Randmasche
Reihe 2: Randmasche, (1abh U, 1PM re), Randmasche
… alle folgenden Reihen wie Reihe 2 stricken.

Vollpatent mit Umschlägen in Runden

Das Ganze funktioniert natürlich auch in der Runde. Die Ausgangsrunde ist wieder ein Wechsel von je einer linken und einer rechten Masche (1li, 1re).
In der ersten Runde werden die linken Maschen mit einem Umschlag abgehoben (1abh U) und die rechten Maschen rechts gestrickt.
In der zweiten Runde werden dann alle Maschen mit ihrem Umschlag links zusammengestrickt (1PM li) und die rechten Maschen mit Umschlag abgehoben.
In Runde drei werden nun wieder die linken Maschen mit Umschlag abgehoben und die Maschen mit ihrem Umschlag rechts zusammengestrickt (1PM re). 
Und dann geht es immer so weiter – Runde 2 und 3 abwechselnd bis zum Schluss.

Basis-Runde: (1li, 1re)
Runde 1: (1abh U, 1re)
Runde 2: (1PM li, 1abh U)
Runde 3: (1abh U, 1PM re)            
… Runde 2 & 3 abwechselnd bis zum Schluss.

Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen

Die doppelte Masche, also die Patentmasche, entsteht hier nicht durch einen Umschlag sondern dadurch, dass jede zweite Masche tiefergestochen abgestrickt wird: Man sticht nicht in die Masche auf der Nadel sondern in die darunter. Beim Abstricken löst sich die obere Masche praktisch auf und legt sich über die untere. Das ergibt das Gleiche wie eine Masche, die mit ihrem Umschlag zusammengestrickt wird.

Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen in Reihen

Die Ausgangsreihe besteht wieder aus einem Wechsel von je einer linken und einer rechten Masche (1li, 1re), eingerahmt von Randmaschen. In der ersten und allen folgenden Patentreihen strickt man dann alle rechten Maschen tiefergestochen ab (1TM re), alle linken Maschen werden links gestrickt.

Basis-Reihe: Randmasche, (1li, 1re), Randmasche
Reihe 1: Randmasche, (1li, 1TM re), Randmasche        
… alle folgenden Reihen wie Reihe 1

Vollpatent mit tiefergestochenen Maschen in Runden

Und auch die tiefergestochenen Maschen lassen sich natürlich in der Runde stricken. Die Ausgangsrunde ist wieder ein Wechsel von je einer linken und einer rechten Masche (1li, 1re). In der ersten Patentrunde strickt man alle rechten tiefergestochen ab (1TM re) und alle linken Maschen normal links. In der zweiten Runde werden die rechten Maschen normal rechts abgestrickt und nun die linken Maschen tiefergestochen gearbeitet (1TM li). Diese beiden Runden werden nun bis zum Schluss abwechselnd gestrickt.

Basis-Runde: (1li, 1re) 
Runde 1: (1li, 1TM re)
Runde 2: (1TM li, 1re)          
… Runde 1 & 2 abwechselnd bis zum Schluss.

Halbpatent

Ein etwas weniger voluminöses Gestrick ergibt das Halbpatent. Hierbei werden nur in jeder zweiten Reihe bzw. Runde Patentmaschen gestrickt: Eine Reihe/Runde mit Umschlägen oder tiefergestochenen Maschen wechselt sich mit einer solchen ab, in der nur abgestrickt wird. 
Vorder- und Rückseite des Gestricks sind deshalb nicht identisch, wie es beim Vollpatent der Fall ist.

Halbpatent mit Umschlägen

Wie oben beim Vollpatent beschrieben, ist die Basis eine Reihe bzw. Runde rechter und linker Maschen. Die Umschläge auf der Vorderseite des Gestricks können beim Halbpatent sowohl den rechten als auch den linken Maschen angefügt werden: die schöne, klare Rippe (wie beim Vollpatent) bildet sich aber nur mit den Umschlägen bei der rechten Masche aus. Arbeitet man die linken Maschen mit Umschlag, landet die klare Rippe auf der Rückseite.

Halbpatent mit Umschlägen in Reihen

Ausgangspunkt ist die Basisreihe rechter und linker Maschen. In Hinreihen wechseln sich jetzt die abgehobenen Maschen mit Umschlag (1abh U) mit linken Maschen ab. In Rückreihen geht es im Rippenmuster weiter, dabei werden die Maschen mit Umschlag links abgestrickt (1PM li).

Basis-Reihe: Randmasche, (1li, 1re), Randmasche
Reihe 1 (Hinreihe): Randmasche, (1li, 1abh U), Randmasche
Reihe 2 (Rückreihe): Randmasche, (1PM li, 1re), Randmasche    
… Reihe 1 & 2 wiederholen …

Halbpatent mit Umschlägen in Runden

Begonnen wird mit einer Runde im Rippenmuster. In der ersten Patentrunde werden die linken Maschen gestrickt, die rechten mit Umschlag abgehoben (1abh U). In der zweiten Runde werden die Maschen mit Umschlag links zusammengestrickt (1PM li) und die rechten Maschen rechts gestrickt. Die nächste Runde ist wieder ein Patentrunde, gefolgt von einer Rippenrunde, und so geht es im Wechsel weiter.

Basis-Runde: (1li, 1re) 
Runde 1: (1li, 1abh U)
Runde 2: (1PM li, 1re)          
… Runde 1 & 2 bis zum Schluss wiederholen …

Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen

Auch bei dieser Variante wechseln sich Patentreihen oder -runden mit einfach abgestrickten Reihen ab. Es wird immer die rechte Masche tiefergestochen gearbeitet.

Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen in Reihen

Die Basis-Reihe (1li, 1re) legt das Rippenmuster an. In der ersten Patent-Reihe werden alle linken Maschen links gestrickt und die rechten Maschen tiefergestochen (1TM re). Die Rückreihe kann man nun im Rippenmuster stricken, wie die Maschen erscheinen – man kann aber auch einfach alle Maschen rechts stricken, denn durch das Tieferstechen löst sich die zunächst links erscheinende Masche über der rechten Rippe auf. Praktisch, oder? Das Muster ergibt sich aus einem steten Wechsel von Hin- und Rückreihe.

Basis-Reihe: Randmasche, (1li, 1re), Randmasche
Reihe 1 (Hinreihe): Randmasche, (1li, 1TM re), Randmasche
Reihe 2 (Rückreihe): Randmasche, (li), Randmasche  
… Reihe 1 & 2 bis zum Schluss …

Halbpatent mit tiefergestochenen Maschen in Runden

Die Basis-Runde im Rippenmuster (1li, 1re) macht den Anfang. In der ersten Patent-Runde werden alle linken Maschen links gestrickt und die rechten Maschen tiefergestochen (1TM re). In der zweiten Runden werden alle Maschen gestrickt, wie sie erscheinen: rechte Maschen rechts, linke Maschen links. Im Wechsel von Runde 1 & 2 geht es weiter bis zum Schluss.

Basis-Runde: (1li, 1re)  
Runde 1: (1li, 1TM re)
Runde 2: (1li, 1re)          
… Runde 1 & 2 bis zum Schluss wiederholen …

Falsches Patent

Das falsche Patentmuster ist eigentlich nichts weiter als ein Rippenmuster. Es ist vom „echten“ Patent auf den ersten Blick kaum zu unterscheiden. Im Gegensatz zum Original besteht das falsche Patenmuster aber nur aus rechten und linken Maschen. Das Volumen ergibt sich dadurch, dass die Rippen sich aufgrund ihrer Anordnung (und des dazwischen versetzten Rippenmusters) ziehharmonikaförmig zusammenziehen.  

Falsches Patent in Reihen

Man benötigt eine durch vier teilbare Maschenzahl (und ggf. Randmaschen)

Reihe 1: 2re, (1li, 3re), 1 li, 2re
Reihe 2: 1li, (3 re, 1 li)    
… Reihe 1 & 2 werden im Wechsel stetig wiederholt.

Falsches Patent in Runden

Man benötigt eine durch vier teilbare Maschenzahl.

Runde 1: 2re, li (1li, 3re), 1re 
Runde 2: (1re, 3li)                
… Runde 1 & 2 werden stetig wiederholt.

Ausblick

So, das ist doch alles gar nicht so schwierig, oder? 
Ein bisschen kompliziert wird es nur, wenn man mal einen Fehler korrigieren muss, z.B. weil man eine Masche fallengelassen hat. Aber mit einer „Safety Line“, einem Faden, den man in regelmäßigen Abständen durch alle Maschen einer Reihe oder Runde führt, hält sich auch dieses Drama in Grenzen. Mehr dazu in unserem nächsten Blog-Post zum Thema Patentstricken. In dem widmen wir uns dem zweifarbigen Patent, sprechen Zu- und Abnahmen an und ein paar Erste-Hilfe-Maßnahmen.

Und … psst – es wird einen Knitalong geben – wie wäre es mir einem wunderschönen Tuch in zweifarbigem Patent? Bleibt uns gewogen!

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